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團(tuán)隊介紹ASML和NIKON光刻機(jī)的翻新改造、安裝調(diào)試及維護(hù)的核心技術(shù)能力

NSR-S622DArF浸沒式掃描儀是通過進(jìn)一步提高已驗證的流線平臺的準(zhǔn)確性和生產(chǎn)力，用于20nm以下的高容量多模式應(yīng)用

NSR-S635EArF浸入式光刻機(jī)，集成內(nèi)聯(lián)對準(zhǔn)站(iAS)，用于大容量5nm節(jié)點應(yīng)用程序制造

尼康公司（東京港區(qū)總裁KazuoUshida）發(fā)布了一代尼康A(chǔ)rF浸入式掃描儀NSR-S631E

NikonARF浸入式光刻機(jī)NSR-S630D進(jìn)一步提高了NSR-S622D的精度和生產(chǎn)率，它采用了以高精度和生產(chǎn)率著稱的流線型平臺，適用于10納米范圍內(nèi)的工藝...

NSR-S621D已開發(fā)用于大批量制造22nm工藝節(jié)點（能夠通過進(jìn)一步提高久經(jīng)考驗的NSR-S620D的精度和生產(chǎn)率來處理雙圖案*1)

NSR-S320F的平臺在尼康的浸入式掃描儀中得到驗證，確保在客戶領(lǐng)域及早實現(xiàn)穩(wěn)定運行和高生產(chǎn)率

NikonKrF掃描光刻機(jī)NSR-S210D產(chǎn)能達(dá)到176wph

NSR-S609B（分辨率≦55nm），用于大批量生產(chǎn)的ArF浸入式掃描儀，NA1.07（一臺突破NA1.0閾值的掃描儀）2006年，NikonNSR-S609...

NikonKrF光刻機(jī)NSR-S205C于2000年在新加坡生產(chǎn)，分辨率≤120nm

TWINSCANNXT:2000i為高級邏輯和DRAM節(jié)點的大批量制造提供出色的覆蓋、聚焦控制和交叉匹配

主要特點和優(yōu)勢TWINSCANNXT:2050i建立在面向未來的NXT4平臺之上，突破了重疊限制，并為浸沒式光刻系統(tǒng)提供了的生產(chǎn)力

ASML二手翻新ARF光刻機(jī)NXT:1470采用193nmARF光源，分辨率57nm，產(chǎn)能300wph

asml二手現(xiàn)貨DUV光刻機(jī)XT:1460K采用193nmARF光源，分辨率65nm，產(chǎn)能205wph

ASML二手翻新現(xiàn)貨DUV光刻機(jī)XT:1060K，采用248nmKRF曝光光源，分辨率80nm，產(chǎn)能205wph

ASML二手現(xiàn)貨DUV光刻機(jī)XT:860M，采用248nmKRF光源，分辨率110nm，產(chǎn)能240wph

ASML二手現(xiàn)貨DUV光刻機(jī)XT:400L，分辨率350nm，產(chǎn)能230wph

ASML二手翻新DUV光刻機(jī)NXT:1965Ci，采用193nmARF曝光光源，分辨率38nm，產(chǎn)能250wph

SUSSMA300Gen2掩模對準(zhǔn)器用于300毫米和200毫米晶圓的高度自動化光刻對準(zhǔn)平臺

SUSSMA2003代光刻機(jī)專為大批量生產(chǎn)而設(shè)計，適用于200毫米以下晶圓和方形襯底的自動化加工